投資數(shù)十億美元，英特爾要用EUV造7nm芯片
英特爾正準(zhǔn)備在D1X 工廠加大對(duì)7nm EUV光刻工藝的研發(fā)，這座工廠位于美國(guó)俄勒岡州，晶圓廠擴(kuò)建通常需要數(shù)十億美元，而EUV光刻的大規(guī)模采用預(yù)計(jì)會(huì)增加額外成本。 英特爾目前正在努力完善一種稱為極紫外光刻（EUV）的新制造工藝，這將使微芯片...
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標(biāo)簽：光刻
英特爾正準(zhǔn)備在D1X 工廠加大對(duì)7nm EUV光刻工藝的研發(fā)，這座工廠位于美國(guó)俄勒岡州，晶圓廠擴(kuò)建通常需要數(shù)十億美元，而EUV光刻的大規(guī)模采用預(yù)計(jì)會(huì)增加額外成本。 英特爾目前正在努力完善一種稱為極紫外光刻（EUV）的新制造工藝，這將使微芯片...
張 妮娜